头豹研究院_中国半导体设备（1）：薄膜沉积设备（CVD&PVD）_20260508

【核心观点】 薄膜沉积设备市场预计到2025年全球规模将达340亿美元，中国晶圆厂国产化率从35%提升至50%，PECVD占据33%市场份额。国产企业拓荆科技、北方华创、微导纳米分别在CVD、PVD、ALD领域领先，需求端由先进制程推动，但技术壁垒高、国际竞争激烈。 【关键要点】 • 2023年全球薄膜沉积设备市场规模260亿美元，预计2025年达340亿美元。 • 中国晶圆厂设备国产化率从21%提升至35%，预计2025年达50%。 • PECVD占据33%市场份额，而PVD和ALD分别占比19%和11%。 • 先进制程推动沉积工序增加，3nm工艺沉积次数超100次，需求激增。 • 国产企业拓荆科技、北方华创、微导纳米分别在CVD、PVD、ALD领域占据领先地位。 【风险提示】 ⚠ 技术壁垒高，设备工艺复杂。 ⚠ 国际领先企业占据市场主导地位，竞争激烈。 ⚠ 地缘政治风险影响供应链和进口限制。